能带结构
禁带与材料分类
禁带是价带顶与导带底之间的能量间隙，决定了材料的导电性：
金属：价带与导带直接重叠（Eg=0），形成连续的电子态分布。以铜为例，其 3d 满带与 4s 半满带的重叠，使得电子可无阻碍地参与导电，形成经典的 “电子气” 模型 。
半导体：较窄的禁带宽度（硅 ( Eg = 1.12 eV)，锗 ( Eg = 0.67eV)）允许室温热激发产生载流子。通过 N 型（掺磷）或 P 型（掺硼）掺杂，可将载流子浓度提升 106倍以上。
半导体能带结构
绝缘体：Eg较宽（>5eV），电子难以跃迁（如金刚石Eg=5.47eV） 。
电子跃迁与导电机制
本征激发:当电子吸收足够能量（如光子能量hν≥Eg）时，从价带跃迁到导带，形成电子-空穴对。此过程是半导体导电的基础 。
示例：太阳能电池中，光子激发硅的价带电子至导带，产生电流
本征激发过程
载流子运动
导带电子：价带电子跃迁后形成的自由电子，在电场作用下定向移动形成电子电流；
价带空穴：价带空穴则等效为可移动的正电荷，在 P 型半导体中（如掺硼硅）主导导电过程，其导电机制类似于液体中的气泡移动 。
实际应用与案例分析
半导体器件
通过掺杂调控载流子浓度（如N型掺磷、P型掺硼），改变导电性，用于制造二极管、晶体管等，二极管与晶体管：PN 结利用能带弯曲形成内建电场，实现整流特性；MOSFET 通过栅极电压调控沟道载流子浓度，英特尔 14 nm 工艺节点晶体管沟道长度已缩小至 14 nm。
光子晶体
利用能带结构设计光传播路径（如光子晶体光纤），在特定频率范围内实现全方向光限制，光子晶体通过周期性介电结构（如空气孔阵列）形成光子禁带，禁止特定频率光传播，其能带计算可类比电子能带理论。
光子晶体能带图
总结
价带和导带是理解材料导电性的核心概念：
价带：束缚电子的能量区域，决定材料的稳定态。
导带：自由电子的能量空间，决定导电能力。
禁带宽度：区分导体、半导体与绝缘体的关键参数。
通过调控能带结构，可设计新型电子器件与光学材料，推动半导体技术的发展。返回搜狐，查看更多